根據鐵氧體結晶構造和形態,制備工藝大體分為:多晶鐵氧體系作工藝;鐵氧體化學工藝;單晶鐵氧體系造工藝及其余特種工藝,如鐵氧體多晶薄膜和非晶鐵氧體等。
多晶鐵氧體系作工藝
雷同陶瓷產業中常用的燒結過程,包含如下步調:經固相反應造成鐵氧體的金屬氧化物或碳酸鹽或其余化合物,在夾雜平均之后,經球磨、干燥,壓成特定的形式。在大抵1000°C的溫度下進行預燒后,再一次充分研磨和夾雜。加入適量的粘合劑,壓成所要求的形式或許作為塑性物質擠壓成管狀、棒狀或條狀。而后在1200~1400°C溫度下燒結,準確的溫度取決于所需的鐵氧體特性。在對照后的燒結過程中,爐膛中的環境條件起有重要的作用。
鐵氧體化學工藝
亦稱濕法工藝,偶爾還稱為化學共積淀法。特意制備較高功能鐵氧體的工藝方式,又可分紅中和法和氧化法。其過程是:先將制備鐵氧體時所需的金屬元素,配制成肯定濃度的離子溶液,而后根據配方取適量溶液進行夾雜,經過中和或氧化等化學反應生成鐵氧體粉末,后來工藝過程與前方介紹的相同。
單晶鐵氧體系造工藝
與非金屬單晶生長大體相同。Mn-Zn和Ni-Zn系鐵氧體單晶生長通常是選用布里茲曼法,即把多晶鐵氧體放入鉑坩堝里熔融后,在適當的溫度梯度電爐中使坩堝下落,從坩堝底部慢慢固化生成單晶。為了使熔融形態下造成的氧分壓抵達平均,晶體生長時在爐膛內需求加幾個乃至100個MPa的氧分壓。
鐵氧體多晶薄膜的制備
如垂直磁化的鋇鐵氧體薄膜,選用新型的對向靶濺射裝置進行濺射。制備石榴石單晶薄膜,多選用在單晶基板上進行氣相或液相外延法,其詳細工藝過程同半導體單晶薄膜的外延方式非常相近。
非晶鐵氧體的制備
此刻是選用超急冷方式和濺射法,所謂超急冷法即把鐵氧體原料和適量的類金屬元素夾雜后,在高溫熔融形態下,突然推廣大溫度梯度的超急冷卻的方式。這方面的研討工作剛才起始,成品的功能還不甚夢想。